摘要：采用磁控溅射仪制备一系列不同Al含量的W1−xAlxN薄膜，系统研究该复合膜的微结构、力学性能、高温抗氧化性能及摩擦磨损性能。结果表明，W1−xAlxN薄膜为面心立方结构，呈(200)择优生长。当Al含量(原子分数，下同)为32.4%时，复合膜中形成h-AlN相，且随Al含量增加，h-AlN含量增多。随Al含量增加，薄膜硬度先升高后降低，Al含量为32.4%时薄膜硬度最大，约为37GPa。随Al含量增加，复合膜在室温下的摩擦因数和磨损率均先减小后增大，Al含量为32.4%时达到最小值，分别为0.3和0.9×10−8mm3/(N·mm)。复合膜摩擦因数随温度升高先增大后减小，而磨损率随温度升高逐渐增大，800℃下W0.676Al0.324N薄膜的摩擦因数和磨损率分别为0.32和8.2×10−8mm3/(N·mm)。与W2N薄膜相比，W1−xAlxN薄膜的高温抗氧化性能和摩擦磨损性能显著提高。关键词：磁控溅射；WAlN复合膜；微结构；抗氧化；摩擦性能下载全文——磁控溅射法制备W_1_x_Al_xN薄膜的微结构与性能_.pdf