TiN薄膜沉积条件对组织结构和结合力的影响

发表时间：[2015-10-30]　　作者：肖娜，杜菲菲，邢韵　　编辑录入：小钼　　点击数：1214

内容简介

摘要:在不同沉积时间和基板温度下，采用反应磁控溅射的方法在Ti6Al4V基板上沉积TiN薄膜，溅射过程中固定溅射总压、溅射功率、氮氩流量比等沉积条件．利用XＲD、SEM分别研究了薄膜的微观结构和表面、截面形貌，利用显微硬度仪和划痕仪分别测量了薄膜的硬度和膜基结合力．研究结果表明:随着沉积时间的增加，薄膜硬度和膜基结合力均有增大趋势;随着基板温度的升高，TiN薄膜择优取向由(111)转向(200)晶面，表面形貌由三角锥转变为片层状，硬度和膜基结合力均呈现升高趋势．关键词:反应磁控溅射;TiN薄膜;沉积时间;基板温度;结合力下载全文——TiN薄膜沉积条件对组织结构和结合力的影响.pdf

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