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冲刷腐蚀纯铜中空位透射电镜研究
发表时间:[2010-12-18]  作者:周浩,杜磊,张金民  编辑录入:冶金之家  点击数:1392

内容简介

冲刷腐蚀纯铜中空位透射电镜研究 周浩,杜磊,张金民 (洛阳船舶材料研究所,河南洛阳,471039) 摘要:对冲刷腐蚀纯铜试样进行氩离子减薄,利用透射电镜进行组织观察。结果表明,纯铜内存在大量的位错及空位盘。基体与Cu2O共格,在透射电镜下观察到大量的莫尔条纹。 关键词:冲刷腐蚀;纯铜;空位;莫尔条纹;透射电镜 空位是一种点缺陷,而点缺陷则是一种重要的晶格缺陷,它对金属的许多物理性质有很大影响,较多文献对空位进行了研究。文献[1]报道了急冷Cu—Cr—0.05Zr合金中存在高浓度空位,空位浓度随固溶铬含量的增加而提高,并聚集成空位盘,是合金急冷强化的重要因素。文献[2]用分子动力学方法对纯铜中的单、双空位进行计算机模拟研究,计算出了单空位的形成能和迁移激活能。文献[3]用散射矩阵法研究了含空位晶体的衍射强度,把空位考虑成刚体球,并且引入“真空体”去反映空位对晶体的衍射影响,计算了晶体的衍射强度随空位位置的变化。文献[4—5]用基于局域密度泛函理论的第一性原理赝势法,对铜薄膜中的空位形成能进行计算机模拟研究。表明铜表面更易形成空位。在薄膜变形以及块体材料的高速变形过程中,空位的形成和运动起到了极重要的影..

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