摘要：采用3kW高功率半导体激光器，在45钢基体上制备不同WC含量(质量分数20%~80%)的WC-NiSiB复合涂层，用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)及X射线衍射(XRD)对熔覆层的微观组织、成分分布及物相进行表征，并测试涂层试样的硬度与耐磨性能。结果表明，激光熔覆WC-NiSiB复合涂层组织主要由γ-Ni、WC、W2C、WB、W2B、Ni4B3及Ni4W等物相组成，熔覆层与基体形成冶金结合。涂层与基体的结合区，从熔合线开始逐渐向上的组织依次为垂直于界面的胞状晶、柱状晶和枝状晶，熔覆层中部为沿一定方向生长的树枝晶，表层为异向生长的细小树枝晶。随WC颗粒含量增加，涂层中WC颗粒分布更加密集。WC含量为60%时，WC颗粒分布均匀致密，熔覆层无裂纹，熔覆层的硬度最高达到1291HV，为NiSiB合金层硬度的2.7倍，耐磨性是NiSiB合金层的6.8倍。关键词：激光技术；激光熔覆；碳化钨；WC-NiSiB复合层；显微组织下载全文——高功率半导体激光宽带熔覆WC_NiSiB耐磨涂层的组织结构与性能_.pdf