摘要：为更好的理解困扰电感耦合等离子质谱仪（ＩＣＰ－ＭＳ）分析灵敏度提高的基质干扰问题，利用激光诱导荧光技术，考察了钡离子和钙离子在ＩＣＰ－ＭＳ取样锥后的质量控制传递行为。通过比较分析离子在取样锥孔口及后端的径向分布，探讨了ＩＣＰ功率、雾化气流速及基质干扰对取样锥后分析离子空间分布的影响。结果表明：取样锥孔口钙离子与钡离子分布类似，但取样锥后扩散状况与其相对原子质量有关，相对原子质量小的元素径向扩散更快，因此仪器检测灵敏度较低；雾化气流速越大，分析离子的传递效率越低，因此更高的进样速率在ＩＣＰ－ＭＳ应用中不一定对应更高的检测灵敏度；分析离子径向分布及数量也受基质组分影响，基质干扰降低了取样锥后中心轴线上的分析离子数量，使其径向分布变得更扁平，通过截取锥的概率更低，最终使得分析离子的信号降低。关键词：电感耦合等离子体质谱仪；取样锥；质量控制传递；功率；雾化气流速；基质干扰下载全文——电感耦合等离子质谱仪取样锥后分析离子空间传递行为的探讨_.pdf