摘要：本文综述了近年来复合纳米氧化铈（CeO2）磨料在化学机械抛光（CMP）领域的最新研究进展，总结了CeO2复合磨料在结构组成及化学掺杂等方面对抛光性能的影响，阐述了不同种类CeO2复合抛光粉的作用机理，认为具有良好抛光性能的CeO2抛光磨料通常是通过核-壳结构或金属元素掺杂的形式进行优化。在不同的抛光工艺和抛光要求下，这两种形式都可有效提升CeO2磨料抛光的速率和平坦度。最后对复合CeO2抛光磨料领域存在的主要技术问题进行了总结，提出了改进措施，并对其发展前景进行了展望，复合CeO2抛光粉未来将逐渐向定制化、可控化、功能化方向发展。关键词：氧化铈;复合磨料;化学机械抛光;结构优化;