一种取向硅钢多次激光刻槽降低铁损的方法

发表时间：[2013-03-04]　　作者：　　编辑录入：冶金之家　　点击数：1447

申请号：	201210479577.6	申请日：	2012.11.23
名称：	一种取向硅钢多次激光刻槽降低铁损的方法
公开 (公告) 号：	CN102941413A	公开(公告)日：	2013.02.27
主分类号：	B23K26/36(2006.01)I	分案原申请号：
分类号：	B23K26/36(2006.01)I;C21D8/12(2006.01)I
颁证日：		优先权：
申请(专利权)人：	武汉钢铁（集团）公司
地址：	430080 湖北省武汉市武昌区友谊大道999号
发明 (设计)人：	朱业超;王向欣;王若平;郭小龙;田文洲;孙山;陈卫星;张福斌;林勇	国际申请：
国际公布：		进入国家日期：
专利代理机构：	湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102	代理人：	段姣姣

摘要　

一种取向硅钢多次激光刻槽降低铁损的方法：其步骤：预刻刻槽：对经退火后的冷轧取向硅钢板的单面采用激光束预刻成线状或点线状刻槽，其预刻刻槽的深度为目标刻槽深度的30～50%，预刻刻槽的宽度为目标刻槽宽度的60～80%；相邻两刻槽的间隙为3～6mm；精刻刻槽：并使其深度d及宽度w达到目标值。本发明通过激光往复式扫描在取向硅钢片的单面形成一系列平行布置的线状或点线状刻槽，实现了刻槽形貌稳定的控制，尤其是刻槽深度和刻槽宽度的精确控制，使铁损根据板厚现有的水平下降至少8%，且不破坏板型又可明显降低铁损。其铁损降低效果经800℃、2小时消除应力退火后未消失，叠片系数也未降低。