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酸浸去除硅中Ti杂质的研究
发表时间:[2023-03-21]  作者:吴纪清;冯琰;陶昌年  编辑录入:小锰  点击数:1186

内容简介

摘要:介绍了利用酸浸的方法去除硅中金属杂质Ti的实验研究,对比了在HF的作用下H2SO4、HCl对硅中金属杂质Ti的去除效果,并探讨了在HF的作用下不同浓度的H2SO4、HCl对Ti去除效果的影响。综合得出10%HCl+5%HF的共同作用可有效去除硅中的金属杂质Ti。并在此基础上讨论了酸洗时间和酸洗温度对Ti去除的影响。结果表明:酸浸温度为45℃,酸浸时间为30min时在5%HF+10%HCl的共同作用下金属杂质Ti的去除率达到了98.68%。 关键词:金属硅;Ti杂;质酸浸;去除 下载高清全文——酸浸去除硅中Ti杂质的研究.pdf

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