摘要：为了提高Ｓｉ３Ｎ４陶瓷的烧结致密度，采用振荡压力烧结工艺分别在１７４５和１７７５℃制备了Ｓｉ３Ｎ４陶瓷，主要研究了Ｓｉ３Ｎ４粉的粒度（平均粒径分别为０．４、２．０、２．３μｍ）对Ｓｉ３Ｎ４陶瓷的显微结构和性能的影响。结果显示：１）在两种温度的振荡压力烧结工艺下，由三种不同粒度的Ｓｉ３Ｎ４粉制备的Ｓｉ3Ｎ４陶瓷的相对密度都很大，为９９．６５％～９９．８６％，彼此相差很小。２）由平均粒径为０．２μｍ的Ｓｉ３Ｎ４粉在１７４５℃烧结制备的试样的微观结构最均匀，其β-Ｓｉ３Ｎ４晶粒平均长径比、抗弯强度和维氏硬度均最大，分别达到５．０、（１３６４±６５）ＭＰａ和（１５．７２±０．８）ＧＰａ；由平均粒径为２．３μｍ的Ｓｉ３Ｎ４粉在１７４５℃烧结制备的试样的β-Ｓｉ３Ｎ４晶粒的平均长径比、抗弯强度和维氏硬度均最小，分别为３．３、（８４６±４９）ＭＰａ和（１３．８２±０．８）ＧＰａ 关键词：Ｓｉ３Ｎ４陶瓷；振荡压力烧结；相对密度；长径比；抗弯强度；维氏硬度 下载高清全文——Si_3N_4粉粒度对振荡...结Si_3N_4陶瓷的影响.pdf