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Al-Si合金熔析结晶过程中界面稳定性与硅晶体生长的控制
发表时间:[2015-07-06]  作者:陈杭,王志,池汝安,靖青秀,孙丽媛,杜冰  编辑录入:admin  点击数:880

内容简介

摘要:利用交变磁场与温度场耦合作用,通过控制AlSi合金熔析结晶时硅晶体生长过程中固液界面的稳定性,解决硅熔析精炼过程中硅晶体与合金熔剂分离难的问题,分析了耦合物理场在结晶过程中的作用机理。结果表明,硅铝合金熔体中硅含量越高,越难发生成分过冷现象,固液界面越稳定,有助于生成致密的块状硅晶体;坩埚内径由3cm降1cm,熔体内温度场分布发生变化,固液界面曲率由16.7变为125,形成的硅晶体更致密,硅晶体与合金熔剂的分离效果增强,硅晶体区域所占比例由0.57减小至0.42;下拉速度越慢,固液界面越稳定,硅晶体与合金熔剂的原位分离效果越好,当其为0.05mm/min时,样品底部硅晶体比例为99.9%,而样品顶部基本没有硅晶体。电磁场的电磁搅拌作用可增大熔体流动,强化熔体传质,增大固液界面前沿硅含量,提高固液界面稳定性。关键词:熔析结晶;硅铝合金;硅;固液界面;分离;电磁场下载全文——Al_Si合金熔析结晶过程中界面稳定性与硅晶体生长的控制_.pdf

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