氮离子束辅助电弧离子镀对TiN膜层中金属“大颗粒”影响的研究吕树国1,2，刘常升1，张罡2，毕监智2，金光2，李玉海2(1．东北大学材料与冶金学院，辽宁沈阳110004；2．沈阳理工大学中俄联合高能束流实验室，辽宁沈阳110168)摘要：采用俄罗斯UVN0．5D2I离子束辅助电弧离子镀沉积设备，在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiN膜层。研究了N离子束轰击能量对膜层表面形貌、相结构、显微硬度的影响。结果表明：N离子束辅助轰击，能够有效地减少和降低膜层表面“大颗粒“的数量和尺寸，消除了膜层中较软Ti2N相，得到了单一的TiN相。随着轰击能量的增加，TiN相结构不发生改变，TiN(111)取向逐渐减弱，而(200)取向逐渐增强。N离子束辅助轰击能量的增加，提高了膜层的显微硬度。关键词：电弧离子镀；TiN膜层；离子束；大颗粒TiN膜层具有高的硬度、高强度、高化学稳定性、优越的机械性能、低的摩擦系数以及诱人的金黄色等特性在刀具、模具和装饰行业等领域得到了广泛的应用。沉积TiN膜层的主要工艺有反应磁控溅射、射频磁控溅射、电弧离子镀、电子束离子镀、离子束辅助沉积技术[1-5]。在各种工艺中电弧离子镀由于沉积速率高，成膜温度低，膜层致密，绕射性好等特性得到了广泛的应用和迅速发展。但是..