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CuCl2一NaCl溶液中铜氯络合物浓度的线性扫描伏安法分析
发表时间:[2011-11-16]  作者:张艳清1,2,李和平*1,刘庆友1,徐丽萍1,张磊3  编辑录入:小钼  点击数:1467

内容简介

CuCl2一NaCl溶液中铜氯络合物浓度的线性扫描伏安法分析.doc 在常压和室温下,对添加与不添加Nacl的CuCl2溶液进行了线性扫描伏安法研究,得到了在0~-0.8V(相对开路电势)电势区间的伏安曲线。对比两种溶液在扫描速率为5mV/s时的曲线,发现添加NaCl后Cu2+与C1-形成了参与电化学反应的络合物[CuCl3]-,且伏安曲线发生了以下变化:第1个峰的峰电位变正,第2个峰的峰电流大大降低,两个峰的峰电位差变大。以不同的扫描速率进行电势扫描,体系所表现的可逆性也不一样。扫描速率大于10mV/s时体系不可逆,扫描速率在1~10mV/s的范围时第一步电极反应的可逆性良好。当体系处于可逆区时,根据峰电流值和扫描速率之间的关系,计算得到了在电极上发生反应的络合物[CuCl3]-初始浓度为2.97×10-3mol/L。本工作的研究思路和技术路线可望对未来湿法冶金、地质和地球化学等领域中溶解态金属络合物的电化学分析具有重要的借鉴作用......

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