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激光刻痕细化取向硅钢磁畴的研究现状
发表时间:[2010-04-03]  作者:马正强  编辑录入:admin  点击数:4656

内容简介

激光刻痕细化取向硅钢磁畴的研究现状马正强(武汉钢铁股份有限公司冷轧硅钢总厂,湖北武汉430083)摘要:激光刻痕可以有效细化取向硅钢的磁畴,从而显著降低铁损。综述了磁畴细化降低铁损和激光刻痕法细化磁畴的原理,并说明采用激光刻痕法细化磁畴降低取向硅钢铁损的研究现状,指出激光刻痕存在的问题及发展方向。关键词:取向硅钢;磁畴细化;激光刻痕;铁损取向硅钢被誉为钢铁产品中的“艺术品”,主要用于制作变压器铁芯。鉴于能源问题日趋严重和电力工业日益发展,不断改善取向硅钢性能,降低其铁芯损耗(简称铁损),一直是备受关注的研究课题。目前,采用后续物理处理方法进一步降低高磁感取向硅钢铁损的研究方兴未艾[1]。目前已发展的取向硅钢后续处理方法主要是通过细化磁畴进一步降低铁损,激光刻痕法是其中最为重要的一种方法。采用激光刻痕法细化磁畴技术可以使取向硅钢铁损降低10%~20%,很多钢铁企业或科研院所对该项技术展开了研究。日本新日铁公司采用脉冲激光辐照技术使HiB钢铁损降低15%左右,牌号为23ZDKH的磁畴细化硅钢片于1983年投入市场[2]。日本JFE公司开发了一种耐热型的磁畴细化技术,其0.23mm和0.27mm的产品以JGSD的名称商品化[3]。在欧洲和美国的专..

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