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浅析低硅冶炼
发表时间:[2009-07-31]  作者:周永平  编辑录入:admin  点击数:11249

内容简介

(安阳钢铁公司技术中心,河南安阳455004)摘要:通过对硅在高炉内迁移行为的研究,分析了影响焦炭灰分中Si以气态SiO进入煤气的因素,以及影响低硅冶炼热力学和动力学等因素,分析了高炉实现低硅冶炼所要采取的措施。关键词:高炉;低硅冶炼;SiO;滴落带中图分类号:TF533文献标识码:A文章编号:1006-9356(2009)02-0028-04近年来,随精料水平的提高,高炉大型化,设备先进化,操作水平提高,及先进工艺的采用如高顶压、高风温、大富氧和大喷煤等,中国炼铁事业取得显著的进步,低硅冶炼取得了很大的进步。高炉冶炼低硅生铁,可达到高产、稳产、节焦、优质的目标,降低生产成本、取得良好的经济效益。铁水含硅量的高低已成为人们评价高炉操作水平的一个重要指标,低硅冶炼是炼铁工作者追求的一个目标。1高炉内硅迁移的机理1.1铁水中[Si]的来源高炉铁水硅的来源有两个:一个是焦炭灰分中的二氧化硅,一个是矿石脉石中的二氧化硅,随着高炉喷煤量的提高,煤粉灰分中的二氧化硅也是高炉铁水一个重要来源。一般认为焦炭和煤粉灰分中的SiO2呈自由状态存在,aSiO2可取为1,而炉渣中aSiO2在0.05~0.10,焦炭煤粉灰分中的aSiO2为炉渣aSiO2的10~20倍,并且灰分中SiO2与C有均匀而紧密..

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