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水蒸气压力对两种SiC质耐火材料氧化速度的影响
发表时间:[2022-09-21]  作者:罗天,王文武,牛世程,郭文辉  编辑录入:小锰  点击数:631

内容简介

摘要:为改进SiC质耐火材料的抗氧化性测试方法,节省测试时间,研究了Si3N4-SiC、Si2N2O/Si3N4-SiC两种SiC质耐火材料在1000℃不同水蒸气压力(分别为0.10、0.11、0.13、0.15、0.17、0.19MPa)下氧化不同时间(分别为20和40h)后的氧化量,检测了氧化前后试样的质量和显气孔率,通过数理统计方法分析了质量变化率与水蒸气压力的数学关系。结果表明:Si3N4-SiC和Si2N2O/Si3N4-SiC质耐火材料在1000℃水蒸气中的氧化速度随水蒸气压力的提高而增大;在氧化20和40h后,其质量变化率的二次方与水蒸气压力具有高度显著的线性关系,表明它们的氧化基本遵循经典的抛物线动力学方程。 关键词:SiC;氧化;水蒸气;压力 下载高清全文——水蒸气压力对两种SiC质耐火材料氧化速度的影响.pdf

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