编者按：近年来，日本对表面热处理技术进行了多方面的研究。在氮化与软氮化方面，研究了碳含量、氮化温度以及氮化循环次数对气体氮化的化合物层的影响，而且对活性屏等离子氮化(ASPN)进行了氮化装置的开发研究，此外.对电子束激发等离子氮化处理以及盐浴软氮化处理中化合物的形成过程进行了研究；在渗碳与碳氮共渗处理方面，对利用有机废弃物的固体渗碳技术、活性屏等离子渗碳处理进行了研究.还研究了环境友好型渗碳处理技术、真空碳氮共渗的处理温度和导入NH、浓度等工艺参数对处理工件渗氮含量的影响以及大批量渗碳、渗氮的等离子滚镀技术；对高频淬火，进行了通过摩擦加工使表面晶粒纳米化并进行高频淬火的试验研究；在扩散渗金属处理方面，利用无加压式复合钢板进行了渗铝技术的研究以及用无氟化物渗剂进行了Cr、Si扩散渗金属处理的研究；最后对PVD(物理气相沉积法)、CVD(化学气相沉积法)和DLC(类金刚石镀膜)等方面进行了研究。本文是对最新研究成果进行的概述。下载全文——日本表面热处理技术最新研究进展.pdf