点此下载——无取向硅钢表面纳米结构的渗硅行为 摘要：对3％无取向硅钢进行表面机械研磨处理(SMAT)，获得表面纳米结构，再进行550～650℃、4h固体粉末渗硅处理，用透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)研究表层组织演变。结果表明：经过SMAT后，3％无取向硅钢表面晶粒尺寸降低至10nm左右，纳米晶层厚度约为20μm。经过550～650℃、4h渗硅处理后，SMAT样品表面形成化合物层，其厚度随着渗硅温度的升高由27μm增加到150μm。化合物层由FeSi和Fe3Si两相组成，其中FeSi相随着渗硅温度的升高而逐渐增加。 关键词：无取向硅钢；表面纳米晶化；渗硅处理；结构 高硅钢具有优异的综合磁性能(即铁损低、矫顽力低、饱和磁感应强度高、磁致伸缩系数接近零等)[1]，是电力、电子设备向高效、节能、低噪方向发展的首选材料之一。迄今已有多种高硅钢制备方法，如化学气相沉积法[2]、快速凝固法[3]、粉末压延法[4]、特殊轧制法[5]等，其中只有化学气相沉积法已用于小规模工业生产上。但该方法需要在1050～1200℃高温下、将薄带置于含有较高质量分数的卤化物介质中进行渗硅，不仅能耗大，设备和薄带表面晶界也易发生严重腐蚀。为了降低渗硅温度和卤化物含量，人们除..